Основные геоморфометрические параметры: теория: различия между версиями

Материал из GIS-Lab
Перейти к навигации Перейти к поиску
Строка 81: Строка 81:
  |Фон_заголовка = #ccccff
  |Фон_заголовка = #ccccff
  |Содержание =<br/> Рассчитаем уклон по {{eqref|5|5}}: <br/><math>G=\frac{3-10}{2\times10}=-0.35</math><br/>Рассчитаем уклон по {{eqref|6|6}}: <br/><math>H=\frac{6-7}{2\times10}=-0.05</math><br/>Тогда уклон поверхности в центральной ячейке, рассчитанный по {{eqref|7|7}} составит:<br/><math>\alpha=\tan^{-1}\left ( \sqrt{\left (-0.35 \right )^2+\left (-0.05 \right )^2} \right )=\tan^{-1} \left ( \sqrt {0.125} \right )=\tan^{-1}\left ( 0.3536 \right )=19.47^{\circ}</math>}}
  |Содержание =<br/> Рассчитаем уклон по {{eqref|5|5}}: <br/><math>G=\frac{3-10}{2\times10}=-0.35</math><br/>Рассчитаем уклон по {{eqref|6|6}}: <br/><math>H=\frac{6-7}{2\times10}=-0.05</math><br/>Тогда уклон поверхности в центральной ячейке, рассчитанный по {{eqref|7|7}} составит:<br/><math>\alpha=\tan^{-1}\left ( \sqrt{\left (-0.35 \right )^2+\left (-0.05 \right )^2} \right )=\tan^{-1} \left ( \sqrt {0.125} \right )=\tan^{-1}\left ( 0.3536 \right )=19.47^{\circ}</math>}}
==== Интерпретация ====
Уклон поверхности фундаментальный морфометрический параметр, который закономерно связан со следующими процессами и характеристиками ландшафта:
*поверхностный сток и дренирование – чем более крутой склон, тем интенсивнее поверхностный сток и меньше инфильтрация влаги в почвенную толщу. Таким образом, уклон имеет принципиальное значение для режима увлажнения почв, особенно – верхних слоев;
*эрозия – интенсивность эрозии растет экспоненциально с увеличением уклона. Это объясняется тем, что с увеличением градиента кинетическая энергия осадков остается постоянной, но транспорт ускоряется в направлении подножья. В результате, кинетическая энергия стока превышает кинетическую энергию осадков, когда склон переходит отметку 8,5°, что и способствует проявлению эрозионных процессов;
*мощность почвенного профиля на склоне закономерно изменяется в соответствии с уклоном и относительной высотой. Как правило, почвенная толща меньше на возвышенных наклонных участках вследствие эрозионных процессов и гравитационного перемещения материала, и постепенно увеличивается в направлении пониженных участков с небольшим уклоном;
*количество солнечной энергии также зависит от уклона, поскольку он определяет угол падения солнечных лучей на земную поверхность. Увеличение уклона поверхности в направлении поступления солнечных лучей увеличивает угол их падения, а значит – количество энергии, которое получает поверхность. Это определяет микроклиматические особенности участка, в частности  температуру, эвапотранспирацию и влажность верхних слоев почвы;
*особенности растительного покрова совокупно отражают все вышеперечисленные характеристики, поскольку они прямо или косвенно влияют на такие эдафические факторы как водный и температурный режим почвы, механический состав корнесодержащего слоя, содержание питательных элементов и т.д.

Версия от 14:07, 13 ноября 2013

Эта страница является черновиком статьи.


Расчет (Zevenbergen-Thorne, 1987) и интерпретация уклона, экспозиции, кривизн рельефа земной поверхности

Геморфометрический анализ растровых ЦМР базируется на двух исходных положениях. Первое основывается на математической формализации земной поверхности, а второе предусматривает расчет показателя в точке (пикселе) с учетом окружения.

Согласно первому положению, с математической точки зрения ЦМР является статистической поверхностью, которая характеризует пространственное распределение показателя высоты и может быть представлена функцией вида:

(1)

где – значение высоты в точке с географическими координатами , которое для лучшей аппроксимации рельефа может быть выражено более сложными функциями, например – полиномиальными (или многочленами). В таком случае многочлен 2-го порядка, используемый для аппроксимации земной поверхности, может иметь следующий вид:

(2)

где и географические координаты точки, высоту которой необходимо определить, – коэффициенты уравнения аппроксимирующей поверхности 2-го порядка. Многочлены являются одними из наиболее простых и хорошо изученных функций в математике. Они характеризуются такими свойствами как непрерывность и сглаженность, благодаря чему их легко можно интегрировать и дифференцировать. Это открывает возможности использования математического анализа не только для более совершенного представления земной поверхности, но и для изучения ее свойств, например, на основе производных разных порядков.

Согласно второму положению, основной аналитической операцией в ГИС, которая используется для расчета большинства параметров на основе растровых ЦМР является анализ окружения. Он позволяет количественно описать связь между точкой (пикселем) и его ближайшим окружением, применяя для расчета локальное (чаще всего, размером 3×3 пиксела) скользящее окно (рис. 1).

рисунок 1
Рис. 1 Расчет большинства геоморфометрических параметров как правило производится на основе скользящего окна размером 3×3 пиксела (Geomorphometry…, 2008)

Окно двигается через все поверхность растра (в направлении от верхнего левого до нижнего правого угла) и последовательно применяет в каждой позиции одну и ту же математическую операцию (расчетную формулу) для ячеек основного растра. Таким образом, результат расчетов определяется формулой, которая используется для сравнения значений центральной ячейки с соседними. В результате получается новый растр, аналогичный по пространственному охвату исходной ЦМР, но с другим параметром.

В данной статье мы будем рассматривать особенности расчета основных геморфометрических параметров на примере алгоритма Zevenbergen-Thorne (Zevenbergen, Thorne 1987), который характеризуется расчетной эффективностью и высокой достоверностью результатов (Skidmore 1989, Jones 1998, Zhou, Liu 2004, Rodríguez, Suarez 2010). Кроме того, он реализован как в Открытых (SAGA), так и проприетарных ГИС (кривизны в ArcGIS, расширение для ArcGIS DEM Surface Tools от Jenness Enterprises).

Алгоритм Zevenbergen-Thorne использует модификацию (2) следующего вида:

(3)

где – коэффициенты аппроксимации, рассчитанные с помощью полиномов Лагранжа на основе 9 значений в ячейках окна 3×3. Геоморфометрические параметры получаются в результате дифференциациии (3) и решения соответствующих уравнений для центральной ячейки квадратной матрицы 3×3.

Основные геоморфометрические параметры, рассчитываемые на основе производных первого порядка

Фундаментальные геморфометрических параметры уклона и экспозиции взаимосвязаны, т.к. оба эти показателя характеризуют градиент поверхности, т.е. интенсивность изменения ее значений в пространстве, которая может быть выражена производной первого порядка. Как производная поверхности первого порядка, градиент характеризуется величиной (уклоном) и направлением (экспозицией).

Уклон поверхности (Slope)

Понятие

Уклон поверхности – угол наклона в точке пересечения между горизонтальной плоскостью и плоскостью касательной к земной поверхности; фиксирует интенсивность перепада высот (градиент) между двумя заданными точками (рис. 2)

рисунок 2
Рис. 2 XXX

Если земная поверхность представлена функцией , то уклон рассчитывается с учетом изменений значений в двух направлениях как :

(4)

где и - производные первого порядка, представляющие изменение значений абсолютной высоты с запада на восток () и с севера на юг ().

Расчет по Zevenbergen-Thorne

Процедура определения уклона поверхности по алгоритму Zevenbergen-Thorne сводится к следующим шагам (рис. 3):

рисунок 3
Рис. 3 Определение уклона поверхности (Zevenbergen, Thorne 1987) XXX

1. определение уклона поверхности в направлении с востока на запад:

(5)


2. определение уклона поверхности в направлении с севера на юг:

(6)

где - высотные отметки в соответствующих ячейках растра, а - расстояние между индивидуальными элементами матрицы высот, другими словами – пространственное разрешение растра. При этом предусматривается, что единицы измерения абсолютной высоты и пространственного разрешения идентичны (как правило, метры);

3. определение интегрального значения уклона поверхности для центральной ячейки скользящего окна:

(7)


Рассмотрим алгоритм на примере Рис. 4:

рисунок 4
Рис. 4 Пример скользящего окна: ячейка для которой рассчитывается значение затенена, значения абсолютной высоты выражены в метрах, пространственное разрешение растра – 10 м



Интерпретация

Уклон поверхности фундаментальный морфометрический параметр, который закономерно связан со следующими процессами и характеристиками ландшафта:

  • поверхностный сток и дренирование – чем более крутой склон, тем интенсивнее поверхностный сток и меньше инфильтрация влаги в почвенную толщу. Таким образом, уклон имеет принципиальное значение для режима увлажнения почв, особенно – верхних слоев;
  • эрозия – интенсивность эрозии растет экспоненциально с увеличением уклона. Это объясняется тем, что с увеличением градиента кинетическая энергия осадков остается постоянной, но транспорт ускоряется в направлении подножья. В результате, кинетическая энергия стока превышает кинетическую энергию осадков, когда склон переходит отметку 8,5°, что и способствует проявлению эрозионных процессов;
  • мощность почвенного профиля на склоне закономерно изменяется в соответствии с уклоном и относительной высотой. Как правило, почвенная толща меньше на возвышенных наклонных участках вследствие эрозионных процессов и гравитационного перемещения материала, и постепенно увеличивается в направлении пониженных участков с небольшим уклоном;
  • количество солнечной энергии также зависит от уклона, поскольку он определяет угол падения солнечных лучей на земную поверхность. Увеличение уклона поверхности в направлении поступления солнечных лучей увеличивает угол их падения, а значит – количество энергии, которое получает поверхность. Это определяет микроклиматические особенности участка, в частности температуру, эвапотранспирацию и влажность верхних слоев почвы;
  • особенности растительного покрова совокупно отражают все вышеперечисленные характеристики, поскольку они прямо или косвенно влияют на такие эдафические факторы как водный и температурный режим почвы, механический состав корнесодержащего слоя, содержание питательных элементов и т.д.